2023年末，与ASML签署了一项价值1万亿韩元的契约，两边将在韩国京畿说念东滩投资开采半导体芯片盘考次序，共同清苦篡改EUV光刻制造技能，同期三星还获取了High-NA EUV光刻设备技能的优先权。不外昨年三星DS（设备处分决策）部门更换新持重东说念主，审查正在进行的情势和投资，立地传出可能减少High-NA EUV光刻机的采购数目。
据TrendForce报说念，三星还是在本月初在其华城园区引入了首台ASML制造的High-NA EUV光刻机，型号为“TWINSCAN EXE:5000”，传说价钱达到了5000亿韩元（约合3.44亿好意思元/东说念主民币24.95亿元）。三星也成为了（2023年末）和台积电（2024年第三季度）之后，第三家安设High-NA EUV光刻机的半导体制造商。
按照之前的说法，ag百家乐可以安全出款的网站这台High-NA EUV光刻机主要用于技能研发，预测2025年中启动使用。三星已决定开发用于逻辑和DRAM芯片的下一代半导体制造工艺，一些技能需要通过High-NA EUV光刻机完了。此外，三星还与Lasertec、JSR、Tokyo Electron和Synopsys和洽，打造High-NA EUV生态系统。
High-NA EUV光刻机是具有高数值孔径和每小时坐褥跳跃200片晶圆的极紫外光宽敞量坐褥系统，用于制造3nm以下的芯片。其提供了0.55数值孔径，与此前配备0.33数值孔径透镜的EUV系统比较，精度会有所升迁，不错完了更高分袂率的图案化，以完了更小的晶体管特征。