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12月20日音信，据Cnews报导，俄罗斯已公布自主研发的光刻机路子图，绸缪是打造比ASML 系统更经济的EUV光刻机。这些光刻机将弃取波长为11.2nm的镭射光源，而非ASML 使用的模范13.5nm波长。因此AG真人百家乐下载，新技能无法与现存EUV 基础按序相容，需要俄罗斯自行开采配套的曝光生态系统，可能需要数年以致十年以上时辰。
该光刻机开采策动由俄罗斯科学院微不雅结构物理商榷所的Nikolay Chkhalo 劝诱，绸缪是制造出性能具竞争力且具资本上风的光刻机。具体来说，俄罗斯将弃取11.2nm的氙（xenon）基镭射光源，取代ASML 的基于激光轰击金属锡（tin）液滴产生EUV光源的系统。Chkhalo 暗意，11.2nm的波长能将分歧率提高约20%，不仅不错简化假想并裁减光学元件的资本，还能呈现更邃密的细节。此外，该假想可减少光学元件的稠浊，蔓延网罗器和保护膜等纰谬零件的寿命。
俄罗斯曝光机还可使用硅基光阻剂，威斯尼斯人AG百家乐预期在较短波长下将具备更出色的性能发挥。尽管该光刻机的晶圆制造产能仅为ASML 配置的37%，主要因为其光源功率仅3.6 千瓦，但也足以应答小规模芯片分娩需求。
尽管11.2nm波长仍属于极点紫外线光（EUV）谱规模，但这并非单纯的小幅调遣。因为所有光学元件包括反射镜、涂层、光罩假想以及光阻剂，皆需要针对新的波前途行零碎假想与优化。因此，镭射光源、光阻化学、稠浊兑现过甚他解救技能也须从头假想，才智确保在11.2nm波长下的灵验运作。
以11.2nm波长为基础的器用很难径直兼容现存以13.5nm为基础EUV 架构与生态系统，以致连电子假想自动化（EDA）器用也需要进行更新。固然现存EDA 器用仍可完成逻辑合成、布局和路由等基本纰谬，但触及曝光的纰谬制程，如光罩府上准备、光学左近翻新（OPC）妥协析度增强技能（RET），则需要从头校准或升级为符合11.2nm的新制程模子。
据报导，该光刻机的开采责任将分为三个阶段，第一阶段将聚焦于基础商榷、纰谬技能辨识与初步元件测试；第二阶段将制造每小时可责罚60 片200 毫米晶圆的原型机，并整合至国内芯片分娩线；第三阶段的绸缪是打造一套可供工场使用的系统，每小时可责罚60 片300 毫米晶圆。当今还不明晰这些新的曝光器用将解救哪些制程技能，路子图也未提到各阶段完成的时辰表。
裁剪：芯智讯-林子
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