Lam Research Corporation 今天布告，其立异的干光刻胶本领已得到纳米电子和数字本领边界迥殊的筹商和立异中心 imec 的认证，可径直印刷 2 纳米及以下的 28 纳米间距清楚后端 (BEOL) 逻辑。
干光刻胶是Lam公司推出的一种先进的图案本领，它培育了极紫外（EUV）光刻本领的分离率、分娩率和产量，而极紫外（EUV）光刻本领是用于分娩下一代半导体器件的重要本领。 \"
跟着芯片制造商向先进本领节点迈进，晶体管特征和间距尺寸不停变小。 自利自为的下一代开辟门道图需要径直印刷 28 nm 间距 BEOL 以兑现彭胀。
在 imec，Lam 的 28 nm 间距干光刻胶工艺与低 NA EUV 扫描仪配对，并可彭胀到高 NA EUV 扫描仪。 它们培育了极紫外光灵巧度和每个晶圆通谈的分离率，从而改善了资本、性能和产量。 此外，百家乐ag跟og有什么区别干光刻胶与现存的湿化学光刻胶工艺比较，能耗更低，原材料用量减少五到十倍，因此具有伏击的可抓续发展上风。
imec 工艺本领副总裁 Steven Scheer 暗意：\"通过蚁集研发，imec 成为了开辟制造商的中立合营伙伴，展示新材料和开辟的可行性，相沿工艺开辟，并为集成开辟制造商和代工场提供早期使用立异工艺的契机，从而加快他们的制造门道图。 Lam 的干光刻胶以具有竞争力的剂量兑现了出色的颓势率和保真度。\"
